엣지 AI 프로세서 스타트업 아나플래시가 삼성 파운드리의 28nm 공정을 사용한 AI MCU를 개발했다고 5일 밝혔다.
이 기술은 아나플래시의 로직-EFLASH기술을 기반으로 하며, 오직 표준 로직 장치만을 활용해 제로 대기 전력(zero-standby-power) 수준의 메모리를 만든다.
배터리로 구동되는 스마트 엣지 장치를 위ㅎ한 비용 효율적이고 에너지 효율적인 AI MCU를 개발했다고 회사측은 설명했다.
마가렛 한 삼성파운드리 미국법인장은 “아나플래시같은 스타트업을 지원하는 것은 삼성전자의 실리콘 생태계 확장에 대한 의지를 보여준다”면서 “아나플래시와 협력을 통해 첨단 로직공정에서 비휘발성 메모리 기술을 통합하는 비용효율적인 방법을 발전시키고, 지능형 엣지 컴퓨팅의 새로운 가능성을 열 것”이라고 밝혔다.
아나플래시의 자회사인 세미브레인은 2022년 삼성전자가 후원한 팹리스 경연대회에서 최초로 우승했다.
이후 한국 정부 기관으로부터 다수의 연구비를 지원받아 삼성 파운드리를 활용한 로직-EFLASH 기술 개발해왔다.
전영희 아나플래시 한국 연구센터장은 “삼성의 지원 덕분에 하이-케이(high-k) 및 메탈 게이트(metal-gate) 기술을 사용해 로직-EFLASH 기술을 처음으로 입증할 수 있었다”면서 “이러한 성과는 제로 대기 전력 가중치 메모리와 결합해 AI 연산을 얼마나 효율적으로 가속화할 수 있는지 보여준다”고 설명했다.
삼성 파운드리의 28nm 공정으로 구축된 이 AI MCU는 훈련된 AI 모델을 효율적으로 저장하기 위한 4비트/셀 임베디드 플래시 기술을 시연할 수 있다.
아나플래시는 2일부터 5일까지 한국 대전에서 개최되는 IEEE 아시아 솔리드 스테이트 회로 학회에서 이번 AI MCU 아키텍처를 발표했다.
아나플래시, 삼성 파운드리 공정에서 만든 AI MCU 공개